专利名称：meso位修饰的卟啉金属化合物及其制备方法专利类型：发明专利发明人：陈闯,雷川虎,林昆华申请号：CN201911028646.X申请日：20191028公开号：CN110590792A公开日：20191220
摘要：本发明公开了一种meso位修饰的卟啉金属化合物及其制备方法。该化合物的结构式为：。该化合物中具有的连吡啶‑吡唑是一种很好的有齿配体，可与金属离子或金属簇实现多种金属有机骨架的自组装。该方法具有反应条件温和、操作简便、产品易纯化，且合成路线短的优点。
申请人：上海大学
地址：200444 上海市宝山区上大路99号
国籍：CN
代理机构：上海上大专利事务所(普通合伙)
代理人：顾勇华
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