专利名称：用于处理基板的腔室专利类型：实用新型专利发明人：申寅澈
申请号：CN201820726304.X申请日：20180516公开号：CN208422868U公开日：20190122
摘要：本实用新型的目的在于提供一种用于处理基板的腔室，其可防止附着在用于密闭基板处理空间的密封部件的异物再流入基板的同时，有效地使得异物从密封部件分离并去除。用于实现所述目的的本实用新型的用于处理基板的腔室包括：第一外壳；第二外壳，其与所述第一外壳相结合；密封部件，其嵌入于所述第一外壳和第二外壳的连接部；排出线路，其形成于所述第二外壳，用于排出所述腔室内的流体；以及间隙，其使得所述密封部件和所述排出线路连通。
申请人：凯斯科技股份有限公司
地址：韩国京畿道安城市
国籍：KR
代理机构：北京冠和权律师事务所
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