专利名称：反射镜、用于极紫外投射曝光系统的光学系统以及
制造组件的方法
专利类型：发明专利发明人：J.劳夫,H.费尔德曼申请号：CN201180047361.6申请日：20110926公开号：CN103140802A公开日：20130605
摘要：一种用于EUV辐射(14)的反射镜(20)，其包含反射镜主体，其具有至少一个EUV辐射反射区(23)及至少两个EUV辐射可穿透区(22)。因此，也可以较小入射角及较大物侧数值孔径形成照明和成像光束路径的空间分离。
申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
地址：德国上科亨
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：邱军
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