专利名称：用于晶片或衬底的UV处理的装置专利类型：实用新型专利发明人：鲁迪·波特曼
申请号：CN200820115092.8申请日：20080515公开号：CN201298538Y公开日：20090826
摘要：本实用新型涉及一种使用UV光对物体即晶片或衬底进行UV处理的装置，其包括UV光源(3)，所述UV光源包括多个LED(11)和热沉(12)。所述LED发射UV光或者含有UV光的光。所述热沉用于将由所述LED产生的废热散发到周围环境中。
申请人：波瓦泰克有限公司
地址：瑞士胡嫩贝格
国籍：CH
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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