一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置[实用新型专利]

(12)实用新型专利

(10)授权公告号 CN 209974867 U(45)授权公告日 2020.01.21

(21)申请号 201920630996.2(22)申请日 2019.05.06

(73)专利权人 深圳市沃克力技术有限公司

地址 518111 广东省深圳市龙岗区平湖街

道平安大道33号澳佳工业园区3栋1楼(72)发明人 陈开龙　(51)Int.Cl.

C23C 14/02(2006.01)

权利要求书1页 说明书3页 附图3页

CN 209974867 U(54)实用新型名称

一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置

(57)摘要

本实用新型公开了一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐，清洗罐上端设有开口，清洗罐上端固定连接有驱动件，驱动件的驱动端固定连接有搅拌件，搅拌件贯穿开口设置并延伸至清洗罐内，清洗罐靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管，清洗罐底部上设有出料件，清洗罐下端固定连接有若干支撑柱。本实用新型通过驱动电机带动若干搅拌杆对清洗罐内的溶液进行搅拌，使得溶液与物体上的离子源充分反应，同时搅拌杆上的清洗刷能够在搅拌中对清洗罐内壁进行刷洗，防止离子源附着在清洗罐内壁上，通过超声波发生器和换能器，配合物体和溶液反应时进行超声清洗，使得离子源能够快速与物体分离，提升清洗的效率。

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1.一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐(1)，其特征在于，所述清洗罐(1)上端设有开口(2)，所述清洗罐(1)上端固定连接有驱动件(3)，所述驱动件(3)的驱动端固定连接有搅拌件(4)，所述搅拌件(4)贯穿开口(2)设置并延伸至清洗罐(1)内，所述清洗罐(1)靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管(5)，所述清洗罐(1)底部上设有出料件(6)，所述清洗罐(1)下端固定连接有若干支撑柱(7)，左侧两根所述支撑柱(7)的左端侧壁上固定连接有清洗件(8)，所述清洗件(8)贯穿清洗罐(1)左侧内壁设置。

2.根据权利要求1所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述驱动件(3)包括固定连接于清洗罐(1)上端的U型板(9)，所述U型板(9)的开口朝下设置，所述U型板(9)的顶面上固定连接有驱动电机(10)，所述驱动电机(10)的驱动轴竖直朝下设置，所述搅拌件(4)固定连接于驱动电机(10)的驱动轴上。

3.根据权利要求2所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述搅拌件(4)包括固定连接于驱动电机(10)驱动轴上的连接杆(11)，所述连接杆(11)贯穿开口(2)设置并延伸至清洗罐(1)内，所述连接杆(11)位于清洗罐(1)内的一端环形侧壁上固定连接有若干搅拌杆(12)。

4.根据权利要求3所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，若干所述搅拌杆(12)均呈倾斜设置，若干所述搅拌杆(12)远离连接杆(11)的一端上均固定连接有清洗刷(13)，若干所述清洗刷(13)远离搅拌杆(12)的一端与清洗罐(1)的内壁相抵接触。

5.根据权利要求1所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述出料件(6)包括连通设置于清洗罐(1)底部上出料管(14)，所述出料管(14)的下方设有盖板(15)，所述出料管(14)下端设有若干等间分布的插槽(16)，所述盖板(15)的上端固定连接有若干与插槽(16)相匹配的插块(17)，若干所述插块(17)分别插设于若干插槽(16)内，所述盖板(15)的上端固定连接有密封环(18)，所述密封环(18)套接于出料管(14)上。

6.根据权利要求1所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述清洗件(8)包括固定连接于左侧两根支撑柱(7)左端侧壁上的支撑板(19)，所述支撑板(19)的上端放置有超声波发生器(20)，所述超声波发生器(20)的输出端连通设置有连接管(21)，所述连接管(21)远离超声波发生器(20)的一端贯穿清洗罐(1)左侧内壁设置，所述连接管(21)位于清洗罐(1)内的一端上固定连接有换能器(22)。

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一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置

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技术领域

[0001]本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置。

背景技术

[0002]真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜，虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。[0003]众所周知，在沉积成膜之前，需要利用等离子直流源对表面进行预处理，导致被处理的物体表面存在异物，且难以清除干净，现提出一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置来解决上述问题。

实用新型内容

[0004]本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置。[0005]为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：[0006]一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐，所述清洗罐上端设有开口，所述清洗罐上端固定连接有驱动件，所述驱动件的驱动端固定连接有搅拌件，所述搅拌件贯穿开口设置并延伸至清洗罐内，所述清洗罐靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管，所述清洗罐底部上设有出料件，所述清洗罐下端固定连接有若干支撑柱，左侧两根所述支撑柱的左端侧壁上固定连接有清洗件，所述清洗件贯穿清洗罐左侧内壁设置。[0007]优选地，所述驱动件包括固定连接于清洗罐上端的U型板，所述U型板的开口朝下设置，所述U型板的顶面上固定连接有驱动电机，所述驱动电机的驱动轴竖直朝下设置，所述搅拌件固定连接于驱动电机的驱动轴上。[0008]优选地，所述搅拌件包括固定连接于驱动电机驱动轴上的连接杆，所述连接杆贯穿开口设置并延伸至清洗罐内，所述连接杆位于清洗罐内的一端环形侧壁上固定连接有若干搅拌杆。

[0009]优选地，若干所述搅拌杆均呈倾斜设置，若干所述搅拌杆远离连接杆的一端上均固定连接有清洗刷，若干所述清洗刷远离搅拌杆的一端与清洗罐的内壁相抵接触。[0010]优选地，所述出料件包括连通设置于清洗罐底部上出料管，所述出料管的下方设有盖板，所述出料管下端设有若干等间分布的插槽，所述盖板的上端固定连接有若干与插槽相匹配的插块，若干所述插块分别插设于若干插槽内，所述盖板的上端固定连接有密封环，所述密封环套接于出料管上。[0011]优选地，所述清洗件包括固定连接于左侧两根支撑柱左端侧壁上的支撑板，所述支撑板的上端放置有超声波发生器，所述超声波发生器的输出端连通设置有连接管，所述

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连接管远离超声波发生器的一端贯穿清洗罐左侧内壁设置，所述连接管位于清洗罐内的一端上固定连接有换能器。

[0012]本实用新型与现有技术相比，其有益效果为：[0013]1、通过驱动电机带动若干搅拌杆对清洗罐内的溶液进行搅拌，使得溶液与物体上的离子源充分反应，同时搅拌杆上的清洗刷能够在搅拌中对清洗罐内壁进行刷洗，防止离子源附着在清洗罐内壁上。[0014]2、通过超声波发生器和换能器，配合物体和溶液反应时进行超声清洗，使得离子源能够快速与物体分离，提升清洗的效率。附图说明

[0015]图1为本实用新型提出的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置的透视示意图；

[0016]图2为图1中A处的局部放大图；

[0017]图3为本实用新型提出的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置的侧视示意图。

[0018]图中：1清洗罐、2开口、3驱动件、4搅拌件、5出液管、6出料件、7支撑柱、8清洗件、9U型板、10驱动电机、11连接杆、12搅拌杆、13清洗刷、14出料管、15盖板、16插槽、17插块、18密封环、19支撑板、20超声波发生器、21连接管、22换能器。具体实施方式

[0019]在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。[0020]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

[0021]参照图1-3，一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐1，清洗罐1上端设有开口2，开口2用于加入清洗的物体和溶液，清洗罐1上端固定连接有驱动件3，驱动件3包括固定连接于清洗罐1上端的U型板9，U型板9的开口朝下设置，U型板9的顶面上固定连接有驱动电机10，驱动电机10的型号为：Y80M1-2，驱动电机10的驱动轴竖直朝下设置，搅拌件4固定连接于驱动电机10的驱动轴上。[0022]驱动件3的驱动端固定连接有搅拌件4，搅拌件4贯穿开口2设置并延伸至清洗罐1内，搅拌件4包括固定连接于驱动电机10驱动轴上的连接杆11，连接杆11贯穿开口2设置并延伸至清洗罐1内，连接杆11位于清洗罐1内的一端环形侧壁上固定连接有若干搅拌杆12，若干搅拌杆12均呈倾斜设置，若干搅拌杆12远离连接杆11的一端上均固定连接有清洗刷13，清洗刷13能够在搅拌过程中对清洗罐1内壁进行刷洗，防止离子源附着在清洗罐1内壁上，若干清洗刷13远离搅拌杆12的一端与清洗罐1的内壁相抵接触。[0023]清洗罐1靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管5，出液管5用于排出清洗后的

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溶液，出液管5上设有阀门(图中未示出)，用于控制出液管5内的液体流量，阀门为现有技术，在此不做赘述，清洗罐1底部上设有出料件6，出料件6包括连通设置于清洗罐1底部上出料管14，出料管14用于取出清洗后的物体，出料管14的下方设有盖板15，出料管14下端设有若干等间分布的插槽16，盖板15的上端固定连接有若干与插槽16相匹配的插块17，若干插块17分别插设于若干插槽16内，若干插槽16和插块17用于将盖板15固定在出料管14的下端，且固定后只有通过外力拉动盖板15才能够使得插槽16和插块17分离，盖板15的上端固定连接有密封环18，密封环18套接于出料管14上，密封环18能够有效防止溶液渗出。[0024]清洗罐1下端固定连接有若干支撑柱7，左侧两根支撑柱7的左端侧壁上固定连接有清洗件8，清洗件8贯穿清洗罐1左侧内壁设置，清洗件8包括固定连接于左侧两根支撑柱7左端侧壁上的支撑板19，支撑板19的上端放置有超声波发生器20，超声波发生器20的输出端连通设置有连接管21，连接管21远离超声波发生器20的一端贯穿清洗罐1左侧内壁设置，连接管21位于清洗罐1内的一端上固定连接有换能器22，超声波发生器20和换能器22用于在溶液与物体反应时，进行超声清洗，超声波发生器20和换能器22均为现有技术，在此不做赘述。

[0025]本实用新型在使用时，先关闭出液管5上的阀门(图中未示出)，并将盖板15上的若干插块17分别插设于出料管14下端的若干插槽16内，使得密封环18套接于出料管14上，从而将盖板15固定在出料管14的下端，防止加入清洗罐1内的液体流出，随后通过开口2加入适量(漫过最上端的清洗刷13即可)的清水，随后将需要清洗的物体经由开口2放置于清洗罐1内，启动超声波发生器20和换能器22，对清水内的物体进行超声清洗，除去盐份，时间大约五分钟，关闭超声波发生器20和换能器22并打开出液管5上的阀门(图中未示出)，排空清洗罐1内的液体，随后再经由开口2加入适量的甲醇溶液，启动驱动电机10带动连接杆11上的若干搅拌杆12转动，使得甲醇溶液与物体上的离子源充分反应，同时搅拌杆12上的清洗刷13能够在搅拌中对清洗罐1内壁进行刷洗，防止离子源附着在清洗罐1内壁上，搅拌的同时启动超声波发生器20和换能器22，超声清洗大约五分钟，除去极性成份，随后排空清洗罐1内的液体，并依次加入丙酮溶液和己烷溶液进行清洗，重复上述步骤，除去非极性成份，即可完成对物体上离子源的清洗，清洗完成后，用力拉动盖板15，使得若干插块17和插槽16分离，即可通过出料管14取出清洗后的物体。[0026]以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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图2

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