（12）发明专利申请
（21）申请号 CN85106153 （22）申请日 1985.08.15
（71）申请人 汉斯·荷尔米勒机器制造有限公司
地址 联邦德国7033赫伦伯格-古尔特斯泰恩·卡普斯街69号
（10）申请公布号 CN85106153A （43）申请公布日 1987.03.04
（72）发明人 维利·拜尔;雷纳·哈斯
（74）专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 陈季壮
（51）Int.CI
H05K3/06;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
在印刷电路板上蚀刻铜膜的方法
（57）摘要
阐述了一种用硫酸钠氨溶液蚀刻印刷电路
板上铜膜的工艺过程，所用的蚀刻液里还加入含溴物质作催化剂，尤其是NHBr或CHCHBrCOBr，以提高蚀刻速度。从这种蚀刻液，有可能在优质钢电极上，电解析出柔韧的铜附着层，并容易将它自电极上剥离下来。
法律状态
法律状态公告日
1987-03-04 1989-06-14
公开
法律状态信息
公开
被视为撤回的申请
法律状态
被视为撤回的申请
权利要求说明书
在印刷电路板上蚀刻铜膜的方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
在印刷电路板上蚀刻铜膜的方法的说明书内容是....请下载后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容